粗细抛光模式

粗细抛光模式

 使用抛光机时，最希望提高的就是机器的抛光速率。因为抛光速率会影响在磨光时产生损伤层的深度。在抛光时也要注意不能让抛光损伤层不会影响最终观察到的组织，即不会造成假组织。很多人都碰到这样的问题，如果使用较粗的磨料可以保证抛光速率比较大，但是会造成很深的损伤层。如果使用较细的磨料则可以保证抛光损伤层变得很浅，但是抛光速率就变得很慢。那么这个问题应如何解决呢？
    解决上述问题的最好的办法就是把抛光操作分阶段进行，首先用粗抛去除磨光损伤层，同时能提高抛光速率，粗抛形成的表层损伤是次要的考虑，不过也应当尽可能小；其次是精抛(或称终抛)，其目的是去除粗抛产生的表层损伤，使抛光损伤减到最小。抛光机抛光时，试样磨面与抛光盘应绝对平行并均匀地轻压在抛光盘上，注意防止试样飞出和因压力太大而产生新磨痕。同时还应使试样自转并沿转盘半径方向来回移动，以避免抛光织物局部磨损太快在抛光过程中要不断添加微粉悬浮液，使抛光织物保持一定湿度。湿度太大会减弱抛光的磨痕作用，使试样中硬相呈现浮凸和钢中非金属夹杂物及铸铁中石墨相产生“曳尾”现象；湿度太小时，由于摩擦生热会使试样升温，润滑作用减小，磨面失去光泽，甚至出现黑斑，轻合金则会抛伤表面。为了达到粗抛的目的，要求转盘转速较低，最好每分钟不要超过600转，抛光时间应当比去掉划痕所需的时间长些，因为还要去掉变形层。粗抛后磨面光滑，但黯淡无光，在显微镜下观察有均匀细致的磨痕，有待精抛消除。